Chúng tôi sử dụng cookie để mang đến cho bạn trải nghiệm duyệt web tốt hơn, phân tích lưu lượng truy cập trang web và cá nhân hóa nội dung. Bằng việc sử dụng trang web này, bạn đồng ý với việc chúng tôi sử dụng cookieChính sách bảo mật
Bột Nitride Silicon Độ Tinh khiết Cao CF-HJ

Nền gốm silicon nitride sở hữu nhiều ưu điểm như độ bền cao, độ dai cao và độ dẫn nhiệt vượt trội (130W/(m-k)). Hơn nữa, hệ số giãn nở nhiệt của nó gần giống với các chất bán dẫn Si, SiC và GaN. Do đó, nền gốm silicon nitride là lựa chọn lý tưởng để đóng gói các mô-đun công suất cao, khiến nó được xem là lựa chọn nền gốm phù hợp nhất.

Công ty chúng tôi sử dụng quy trình nitrat hóa trực tiếp để sản xuất bột silic có độ tinh khiết cao. Thông qua công nghệ độc quyền được cấp bằng sáng chế, chúng tôi kiểm soát vật liệu silicon, quy trình nitơ hóa và quy trình tinh luyện để chế tạo bột nitride silicon CF-HJ với độ tinh khiết cao, hàm lượng pha cao, phân bố kích thước hạt hẹp và hoạt tính nung kết xuất sắc. Loại bột nitride silicon này đã chấm dứt hiệu quả các độc quyền nước ngoài và có thể là một lựa chọn thay thế hoàn toàn khả thi cho bột nitride silicon nhập khẩu cùng chất lượng.

Thông sô ky thuật

Tải PDF

Mục kiểm tra

Đơn vị

Phạm vi chỉ số

Thiết bị hoặc phương pháp kiểm tra

pha α

%

≥90

Máy nhiễu xạ tia X

JC/T 2342-2015

Fe

ppm

≤200

Phương pháp hấp thụ nguyên tử

ISO10058-3:2008

Al

ppm

≤200

Ca

ppm

≤200

N

%

≥38.5

Thiết bị nitơ Kjeldahl

GB/T 16555-2017

Frss Si

%

<0.2

Methpd thể tích khí

GB/T 16555-2017

C

%

≤0.10

Máy phân tích carbon hồng ngoại tần số cao

GB/T 16555-2017

D50

μm

≤0.9

Máy phân tích kích thước hạt bằng laser

GB/T19077-2016

O

%

≤1.4

Phương pháp dẫn nhiệt hồng ngoại xung khí trơ

GB/T 16555-2017

Yêu cầu báo giá

  • Name*

  • Tel*

  • Email*

  • Country*

  • leave a message: